王放：\&quot呃……\&quot

接着，王放仔细一瞧，立刻洞察了一个关键的疑点：\&quot刘工，敢问，你是不是把nb线和pc线接错了，导致整台光刻机内部形成了一个dv阻环流的gf电阻网络？\&quot

老刘：\&quot啊，你怎么知道的？\&quot

此时此刻。

王放的话让贾赫顿牛和米谢尔帕两人也找到了光刻机的症结所在。

米谢尔帕接着说：\&quot实话说，一旦光刻机出现这种gf电阻流，它的精度极限就无法超越6纳米的限制。\&quot

贾赫顿牛：\&quot没错，所以我们若不找到新的突破，摆脱当前的通用电阻流，3纳米精度的突破将无从谈起！\&quot

老刘：\&quot这……\&quot

\&quot但是，依据现有的量子力学和光流电理论，制造出5纳米精度以及贵国最新3纳米精度的光刻机原型，都是利用ce电阻流技术，为何我们现在采用的cf电阻流反而使精度倒退了呢？\&quot牛伟民：\&quot是啊，贾赫顿牛先生，按理说，在量子力学和光流电刻蚀理论的支持下，cf电阻流应该比ce电阻流的密度更高，体积更小，流动性更强，所以理应能提升光刻机的精度才对。\&quot

然而。

米谢尔帕此刻却无奈地摇头：\&quot不对……\&quot

\&quot实际上，经过我们和导师长达六年的研究，我们才明白，当光刻机达到5纳米，即电阻流达到ce级别后，就不能再遵循这种模式，通过cf、co、cp等有规律的方式提升精度了。\&quot

\&quot否则，4纳米、3纳米、2纳米、1纳米……甚至0.1纳米的光刻机精度研发难度，都会比现在小得多，我们花了六年时间研发的这款3纳米精度光刻机，目前只能算是实验品，还未能真正投入生产和应用。恐怕在接下来的几年里，它也只能停留在试验阶段。\&quot

听到这里，研发室内的所有人，包括研究员、工程师老刘刘国栋、牛伟民何玉婷，乃至智商超群的犹太裔美国人贾赫顿牛和米谢尔帕，都不禁陷入了沉思，低头无语……

贾赫顿牛：\&quot或许，我们千里迢迢赶来，也无法帮助我们的朋友……\&quot

忽然，王放转向了一隅，在实验室的隐蔽处，他似乎在探寻着什么秘密。视线停留于一枚指甲盖大小的橙红物质上，他取下显微镜，于其下仔细观察。接着，他利用蒸馏装置将其溶解，再烘干成一根比发丝还要纤细的线状物......

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